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達志化學

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DZ-90H 電鍍銅工藝

1.體系電流密度范圍從0.5至4安培/平方分米。 2.優越的深鍍性能,可覆蓋高縱橫比板上所有CD范圍。 3.對復雜的圖形設計有優越的表面分散性能。 4.優異的冶金特性。
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DCu-3200 沙酸銅添加劑

1.鍍層表面細密、優美而無光澤。 2.鍍層極其均勻。 3.單一添加劑,易于操作管理,穩定性極佳。 4.和各種鎳系列鍍液(有光澤、半光澤、低光澤)配合使用,可取得良好的無光澤沙面鍍層。
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DZ-390 無氰堿性鍍銅工藝

1.技術領先的無氰堿性鍍銅工藝,分散能力和覆蓋能力均超過氰化物鍍銅工藝。 2.銅層的結晶細致、平滑、密致且柔軟,無孔隙,可以直接在鋼鐵、銅及銅合金、鋅合金、不銹鋼、沉鋅后的鋁及鋁合金、化學鎳、氨基磺酸鎳上進行電鍍。 3.不含有害重金屬元素,符合ROSH環保要求,適合于掛鍍和滾鍍。
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DCu-340 堿性鍍銅光亮劑

1.此光亮氰化銅鍍層平滑、緊密、幼細,可增長電鍍氰化銅時間,以增加與酸銅鍍層及光亮鎳鍍層的結合力。 2.電流密度范圍廣闊,沉積速度快。 3.單一添加,可用作滾鍍及掛鍍。 4雜質容忍量高,易于控制。 5.不含有害重金屬,符合RoHS標準。
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DL-3&4 高效能光亮氰化銅電鍍工藝

1.銅鍍層結晶細致,光亮及均勻。 2.電流密度范圍寬闊,覆蓋能力極佳。 3.有機或無機雜質容忍度高,易于控制。 4.適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件,尤為適合于鋅合金壓鑄件。 5.鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制,效果同樣理想。 
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3# 氰化鍍銅光亮劑

1.鍍層平滑、緊密、細致。 2.電流密度范圍廣闊,沉積速度較快。 3.可作滾鍍及掛鍍。 4.雜質容忍量高,易于控制。 5.如鍍件全部為鋼鐵工件時,氫氧化鈉含量可調高至10-30克/升。
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DCu-02 堿銅抑霧劑

1.用于抑制氰化鍍銅液中的堿霧逸出。 2.對堿霧抑制率可達90%以上,能有效改善生產車間工作環境。
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DCu-412 浸銅鹽

1.可使鋼鐵工件得到結合力好的化學鍍層。 2.適用于作為管狀零件酸性鍍銅前的底層。 3.操作簡便。
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DK-105 焦磷酸銅光澤劑

1.具有優異的平滑性,能產生良好的光澤鍍層。 2.鍍層均一性好,可以均一地進行厚鍍。 3.電流效率極佳,可在高電流密度中作業,加快電鍍速度。 4.鍍液管理簡單,操作容易。
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