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產品分類
1.鍍層表面細密、優美而無光澤。
2.鍍層極其均勻。
3.單一添加劑,易于操作管理,穩定性極佳。
4.和各種鎳系列鍍液(有光澤、半光澤、低光澤)配合使用,可取得良好的無光澤沙面鍍層。
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1.技術領先的無氰堿性鍍銅工藝,分散能力和覆蓋能力均超過氰化物鍍銅工藝。
2.銅層的結晶細致、平滑、密致且柔軟,無孔隙,可以直接在鋼鐵、銅及銅合金、鋅合金、不銹鋼、沉鋅后的鋁及鋁合金、化學鎳、氨基磺酸鎳上進行電鍍。
3.不含有害重金屬元素,符合ROSH環保要求,適合于掛鍍和滾鍍。
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1.此光亮氰化銅鍍層平滑、緊密、幼細,可增長電鍍氰化銅時間,以增加與酸銅鍍層及光亮鎳鍍層的結合力。
2.電流密度范圍廣闊,沉積速度快。
3.單一添加,可用作滾鍍及掛鍍。
4雜質容忍量高,易于控制。
5.不含有害重金屬,符合RoHS標準。
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1.銅鍍層結晶細致,光亮及均勻。
2.電流密度范圍寬闊,覆蓋能力極佳。
3.有機或無機雜質容忍度高,易于控制。
4.適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件,尤為適合于鋅合金壓鑄件。
5.鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制,效果同樣理想。
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1.鍍層平滑、緊密、細致。
2.電流密度范圍廣闊,沉積速度較快。
3.可作滾鍍及掛鍍。
4.雜質容忍量高,易于控制。
5.如鍍件全部為鋼鐵工件時,氫氧化鈉含量可調高至10-30克/升。
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