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達志化學

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DAg-2002 厚銀電鍍光亮劑

1.DAg-2002光亮劑專為厚銀電鍍而設。 2.鍍層白亮,不易發黃。 3.鍍液分散能力好,適用于掛鍍及滾鍍。
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DZ-360 光亮鍍銀工藝

1.鍍層高光亮,色澤潔白。 2.鍍層有極好的填平能力。 3.適用于裝飾性或功能性電鍍。 4.適用于掛鍍或滾鍍。
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DZ-370 環保鍍銀電鍍工藝

1.本工藝不含氰化鈉(鉀)及氰化銀、不含磷,廢水處理簡單,符合環保要求。 2.本工藝與氰化鍍銀溶液兼容,可以在氰化銀鍍液基礎上直接轉缸。 3.視需求,與不同添加劑配合可獲得薄銀或厚銀等裝飾性或功能性鍍層。
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DSN-961 高級酸性光亮鍍錫工藝

1.鍍液穩定,容易控制。 2.鍍層光亮,具有優良的焊接性及抗蝕性。 3.可用于掛鍍及滾鍍。
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DZ-8405 高速電鍍光亮純錫工藝

1.本工藝有獨特的體系,在很寬的鍍液操作溫度范圍內都可以得到形態均勻和穩定的鍍層。 2.鍍層的光亮性及可焊性極好,并且有機成份極低。 3.符合電子工業內的測試標準,對電子產品有極高的質量保證,適用于電子元器件的電鍍。
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DZ-8407 硫酸型啞光錫電鍍工藝

1.啞光錫工藝,能產生可焊性的抗蝕鍍層。 2.此工藝即使在低金屬濃度下也能產生高的電鍍效率,從而使其在高厚徑比的孔中具有較好的抗性及分散力。
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DZ-8406 高速電鍍啞光純錫工藝

1.此工為可回流、純錫工藝,專門為中高速電鍍設備而設計,可用于終端電鍍以及線材或線路電鍍。 2.在寬闊的溫度及電流密度范圍電鍍出有機物含量極少、覆蓋能力強、延展性好、可焊性佳的純錫鍍層。 3.鍍層表面形態均勻穩定,適于“低須觸線”無鉛精飾。
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DZ-8408化學浸錫工藝

1.鍍層致密,均勻。 2.鍍層具有良好的可悍性、導電性、延展性能。 3.洗凈性良好、鍍層不易出現水洗痕及殘留物質。 4.鍍液不易渾濁,使用壽命長。 5.適用于銅基材上的化學浸錫。
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DZ-8409化學沉錫工藝

DZ-8409是一種新型環保化學沉錫工藝,具有性能穩定、操作方便、經濟等特點。DZ-8409在55℃、10分鐘,可在銅面獲得0.8-1.2微米的純錫層,與傳統的無機浸錫相比沉錫速率更快,性能更可靠,且不易產生錫須,獲得的錫層可焊性良好。
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